Semitool_SRD,SEMITOOL甩干機(jī)

中葦電子科技有限公司供應(yīng)SEMITOOLSRD甩干機(jī),semitool原裝備件配件供應(yīng)商,semitool密封門,semitool窗口,semitooldoor,SEMITOOL定位氣缸,psc-101控制器,LC-5 LC-4驅(qū)動(dòng)器,semitool轉(zhuǎn)子

SEMITOOL產(chǎn)品中的SRD旋轉(zhuǎn)沖洗甩干機(jī)是根據(jù)國(guó)際、國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和市場(chǎng)需求，研究開發(fā)的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干設(shè)備。該機(jī)型具有高潔凈度旋轉(zhuǎn)沖洗甩干功能。本系列機(jī)型可以適應(yīng)從φ25mm到φ200mm直徑（包括方形和其它特殊形狀）片式材料的旋轉(zhuǎn)沖洗甩干工藝?？捎糜诎雽?dǎo)體晶片、砷化鎵材料、掩膜版、太陽能電池基片、藍(lán)寶石、鈮酸鋰、光學(xué)鏡片、磁盤、光盤、醫(yī)用玻璃基片等類似材料的高潔凈度沖洗甩干。是半導(dǎo)體濕法清洗工藝中必不可少的主流設(shè)備之一。

SEMITOOL psc-101旋轉(zhuǎn)清洗干燥機(jī)

描述：

SEMITOOLpsc-101旋轉(zhuǎn)清洗干燥機(jī)采用去離子水沖洗和加熱的氮?dú)飧稍锶詣?dòng)晶片襯底后的濕化學(xué)方法。有兩個(gè)雙層干衣機(jī)和潔凈室中一堆烘干機(jī)。該系統(tǒng)使用一個(gè)可編程的方法來自動(dòng)處理晶圓。

規(guī)格/性能：

一種電阻率探針可監(jiān)測(cè)浴中的化學(xué)濃度（稱為“漂洗電阻率”），以確保完全去除化學(xué)品。

無點(diǎn)式干燥氮?dú)饧訜崞鳌?/p>

可編程的食譜包括漂洗，質(zhì)量沖洗，清洗，和干燥周期。

支持樣本量：

最大晶片直徑：200毫米（8英寸）

晶圓直徑：75毫米（3英寸），100毫米（4英寸），150毫米（6英寸），和200毫米（8英寸）。

掩模尺寸：125毫米（5英寸），150毫米（6英寸）。

支持的小片段：沒有。

典型應(yīng)用：

晶圓和掩模清洗和干燥。

一、主要達(dá)到的技術(shù)性能指標(biāo)

1．電源及電氣控制安全性技術(shù)要求

1.1電壓：AC220V/110V

1.2頻率：50Hz±1Hz

1.3功率：3kW

1.4整機(jī)絕緣電阻大于2MΩ（用1000V兆歐表測(cè)）

1.5各功能開關(guān)、按鍵、安全互鎖功能、緊急開關(guān)應(yīng)使用靈活、動(dòng)作可靠。

1.6設(shè)備表面平整、光滑、色調(diào)一致。設(shè)備內(nèi)、外各種安全、警告標(biāo)志齊全。

1.7在設(shè)備接地標(biāo)志處可靠接地。

2．使用氮?dú)獾南嚓P(guān)安全性技術(shù)要求

2.1使用氮?dú)鈮毫Γ?.23～0.28MPa（Max）

2.2使用氮?dú)夂牧浚?00～280L/min(單腔)

2.3氮?dú)饨涌诠軓剑篛D 3/8英寸(紅色標(biāo)記)

2.4氮?dú)膺^濾精度：≤0.1μm(或按用戶要求配置)

2.5設(shè)備用氮?dú)饨尤胩帨p壓閥位置應(yīng)有明顯禁調(diào)標(biāo)志，嚴(yán)禁設(shè)備在高于氮?dú)庠O(shè)定壓力時(shí)操作運(yùn)行。（提示用戶按要求配置）

2.6未經(jīng)過潔凈化處理的氮?dú)夤苈穱?yán)禁直接接入設(shè)備使用，避免對(duì)設(shè)備造成污染

3．去離子水的相關(guān)安全性技術(shù)要求

3.1使用去離子水壓力：0.25～0.3MPa（推薦）

3.2使用去離子水耗量：8～12L/min(單腔)

3.3去離子水接口管徑：OD 3/8英寸(藍(lán)色標(biāo)記)

3.4設(shè)備排水口管徑：OD 32mm(UPVC管)

3.5未安裝過濾器或未經(jīng)過潔凈化處理的去離子水管路嚴(yán)禁直接接入設(shè)備使用，避免對(duì)設(shè)備造成污染。

二、解決方案

根據(jù)客戶產(chǎn)品及要求，對(duì)SEMITOOL甩干機(jī)進(jìn)行工裝及載體設(shè)計(jì)，以及后期的工藝參數(shù)調(diào)整。為客戶提供方案設(shè)計(jì)，模擬實(shí)驗(yàn)，現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用等一體化技術(shù)服務(wù)。